广州:集聚发展光掩膜、光刻胶、电子气体、高纯靶材、大硅片等制造材料生产线
来源:人民财讯 作者:翁健 2026-01-13 11:15
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人民财讯1月13日电,为深入贯彻国家集成电路产业高质量发展战略部署,助力广州打造国家集成电路产业发展“第三极”核心承载区,《广州市关于“十五五”时期全链条推动集成电路产业高质量发展的若干政策(征求意见稿)》 公开征求意见。其中提到,着眼补齐产业链短板,集聚发展光掩膜、光刻胶、电子气体、高纯靶材、大硅片等制造材料生产线及其产业上下游,培育光刻、刻蚀、离子注入、沉积、清洗、检测设备等制造设备龙头企业。

责任编辑: 郑灶金
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