国家知识产权局:加快推动《集成电路布图设计保护条例》修改
来源:人民财讯 作者:朱雨蒙 2025-04-24 10:52
Aa 大号字

人民财讯4月24日电,国新办今日就2024年中国知识产权强国建设有关情况举行新闻发布会,国家知识产权局局长申长雨表示,国家知识产权局围绕加强知识产权保护和运用,制定了系统化的落实举措。在知识产权保护方面,持续加强知识产权法治保障。加快推动《商标法》新一轮修改进程,着力从制度层面解决商标领域存在的恶意抢注、恶意无效、商标囤积等问题,保障市场运行。紧扣行业诉求,加快推动《集成电路布图设计保护条例》修改,更好适应超大规模集成电路的发展需要。

责任编辑: 周映彤
e公司声明:文章提及个股及内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
更多相关文章
热门解读 更多
视频推荐 更多
热门股票 更多
股票名称 最新价
涨跌幅